Q235微波等离子去胶清洗机概述：Q系列等离子清洗机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理或后处理；MEMS制造中的牺牲层去除。
Q235微波等离子去胶清洗机工艺参数：
材质：石英玻璃
容积：11公升
腔体尺寸：直径235mm，深度260mm
腔体后部：铝
腔门：铝质材料制作，抽拉式支撑架跟前门相连，便于手动放片；
气体分布：前门扩散
观察视窗：防紫外及微波
支撑架：铝质材料，
真空连接：DN25ISO-KF
压力控制：Pirani，1-100Pa
真空泵：推荐25m3/h
真空阀：电子气动阀，DN25ISO-KF
真空密封：硅树脂
气体供应：
气体通道：1路数字MFC，装有电磁阀，500sccm（N2校准），1/4"Swagelok接头
卸压：电磁阀，1/4"Swagelok接头
功率：2.45GHz，50-600W连续可调
耦合：微波天线，铝质谐振器，腔体内无电极
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